Hafnijev silicid (HfSi2)je silicid prijelaznog metala, vrsta vatrostalnog intermetalnog spoja. Zbog svojih jedinstvenih fizikalnih i kemijskih svojstava koristi se u kermetima, premazima otpornim na oksidaciju pri visokim temperaturama, strukturnim materijalima pri visokim temperaturama te u zrakoplovstvu, zrakoplovstvu i drugim područjima. Kako bi se spriječila oksidacija, povećala otpornost matrice na eroziju i nadoknadili nedostaci nakon ablacije, HfSi2 se može koristiti kao izvor Hf za in situ sintezu HfC.
Koristi hafnijev silicid HfSi2 nanoprah
Poluvodič: Koristi se u CMOS uređajima za poboljšanje performansi u aplikacijama velike snage i frekvencije.
Premazi: HfSi2 se koristi u tankim filmovima za elektroniku za poboljšanje trajnosti i funkcionalnosti.
Strukturne komponente: U industrijama kao što je zrakoplovstvo, pomaže u stvaranju komponenti koje mogu izdržati visoke temperature.
Električno grijanje: Njegova visoka toplinska vodljivost čini ga pogodnim za grijaće elemente u industrijskim primjenama.
Termoelektrični materijali: HfSi2 se može koristiti za poboljšanje energetske učinkovitosti termoelektričnih sustava.
Solarni: Također se može koristiti u fotonaponskim sustavima za poboljšanje učinkovitosti.
Kataliza: HfSi2 ima svojstva koja podržavaju katalitičke kemijske procese.